Podstawy ochrony własności intelektualnej i przemysłowej - dobre praktyki : poradnik /

Podtytuł:	poradnik /
Odpowiedzialność:	[oprac. Katarzyna Czekaj, Lidia Ozdarska].
Miejsce:	Łódź : \| Warszawa :
Wydany przez :	Instytut Nauk Społeczno-Ekonomicznych ; \| Wyższa Szkoła Zarządzania i Prawa im. Heleny Chodkowskiej,
w roku:	2012.
Opis fizyczny:	67 s. ; 25 cm.

Uwagi:	Na okł. nazwa programu: B+R=przyszłość. Bibliogr. s. 63-67.
ISBN:	978-83-7834-078-2

Spis treści:
PDF

Egzemplarz
miejsce	numer inwentarzowy	sygnatura	status	data zwrotu	ostatnia akcja w systemie	akcje

Rekord:

ISBN: